| 标准号： |
GB/T 24582-2009 |
| 英文名称： |
Test method for measuring surface metal contamination of polycrystalline silicon by acid extraction-inductively coupled plasma mass spectrometry |
| 中标分类： |
冶金>>半金属与半导体材料综合 |
| 发布日期： |
2009-10-30 |
| 发布单位： |
CN-GB |
| 标准状态： |
请与本站工作人员进行确认 |
| 实施日期： |
2010-06-01 |
| ICS分类： |
半导体材料>>半导体材料 |
| 起草单位/标准公告： |
新光硅业科技有限责任公司 |
| 正文语言： |
汉语 |
| 页数： |
8P.;A4 |
| 引用标准： |
ISO 14644-1;SEMI C28;SEMI C30;SEMI C35;ASTM D5127 |
| 内容提要（CN）： |
硅;化学分析和试验;半导体;含量测定;晶体;杂质 |
| 内容提要（EN）： |
SILICON;SILICONE;CHEMICAL ANALYSIS AND TESTING;SEMICONDUCTORS;CONTENT DETERMINATION;CONTENT DETERMINATIONS;DETERMINATION OF CONTENT;CRYSTALS;IMPURITIES;IMPURITY |
| 归属： |
中国 |
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